The behaviors of endothelial cell and smooth muscle cell of different Ti-Cu films, and the properties of copper release ......

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本文以玻璃为沉底材料,采用直流溅射工艺制备ZnO:Ga 薄膜.研究在不同退火时间下,ZnO:Ga 薄膜的结构特性,光学特性以及电学性能的变......

采用直流磁控溅射法制备了ZnO薄膜, 研究了沉积过程中变换氧分压对薄膜光电性能的影响。采用XRD、紫外可见光分光光度计及AFM等方......

采用直流磁控溅射的方法分别在普通玻璃与硅片上制备了氧化钒薄膜, 在大气及真空氛围下分别对样品采取了退火处理, 测量了退火前后......

采用直流磁控溅射法，结合氧化法热处理在硅基底上制备VO2薄膜，通过SEM、XRD、XPS、FTIR红外透射率等测试，从多角度分析了氧化热处理对......

In order to attain high-quality Ti-Ni-Cu film,the surface morphologies,chemical compositions and mechanical properties o......

在室温下,采用孪生对靶直流磁控溅射工艺,在玻璃衬底上制备出高质量的Ga掺杂ZnO（ZnO：Ga）透明导电膜。研究了薄膜厚度对薄膜的结构、光......

用X-射线衍射，透射电镜，X射线光电子能谱，穆斯堡尔谱研究了直流磁控溅射法制备的Fe-Zr-B薄膜。用振动样品磁强计测量了薄膜的磁性能，X-......